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基礎編 第1章:半導体物性とMOS構造の基礎

本章では、MOSトランジスタやLSI回路設計の物理的基盤となる半導体物性の本質を、以下の段階で丁寧に解説します:

  1. バンド構造とキャリア
  2. PN接合と整流特性
  3. MOS構造における電界制御とチャネル形成
  4. MOSトランジスタのスイッチ動作
  5. CMOSインバータによる論理回路の出発点

これにより、物性物理から論理回路の入り口までを、一貫した流れとして理解できる構成になっています。


🔍 本章の位置づけ


📘 章構成(chapter1_materials/)

節番号 ファイル名 内容概要
1.1 1.1_band_structure.md バンド構造とキャリア(電子・正孔・ドーピング)
1.2 1.2_pn_junction.md PN接合、空乏層、整流と接合ダイオードの動作
1.3 1.3_mos_structure.md MOS構造、電界制御、チャネル形成(nMOS/pMOSの基本)
1.4 1.4_mos_switch.md MOSトランジスタのスイッチ動作と回路的ON/OFFモデル
1.5 1.5_cmos_inverter.md CMOSインバータの構造・論理動作・波形と消費電力

🧠 学習のポイント


📂 ディレクトリ構成

Edusemi-v4x/
└── chapter1_materials/
    ├── README.md
    ├── 1.1_band_structure.md
    ├── 1.2_pn_junction.md
    ├── 1.3_mos_structure.md
    ├── 1.4_mos_switch.md
    └── 1.5_cmos_inverter.md

🖼️ 図版・補足予定


🔄 次章への接続


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