このディレクトリは、1998年を中心としたDRAM技術の歴史的資料・技術ノートをアーカイブしたものです。64M DRAMの立ち上げに関する実体験、プロセスフロー、セル構造、メーカー比較などを含み、技術教育および半導体史研究のために構成されています。
This directory archives historical technical materials and notes related to DRAM technology around 1998, including real-world experience from 64M DRAM ramp-up, process flows, cell structures, and maker comparisons. It is structured for educational and semiconductor history research purposes.
ファイル名 / File Name | 内容概要 / Description |
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DRAM_Startup_64M_1998.md | 64M DRAMの量産立ち上げ記録(Pause Refresh不良とその解析、アッシング→ウェット改善などの実体験記録) Real-world record of 64M DRAM production ramp-up, including Pause Refresh failures and process improvement. |
DRAM_Process_Flow_Full.md | 1998年当時のDRAM製造プロセスフローの全体像(日本語) Comprehensive process flow for DRAM fabrication in 1998 (Japanese). |
DRAM_Process_Flow_Full_en.md | 上記の英語版。国際技術者・研究者向けに翻訳されたもの English version of the full DRAM process flow for international engineers and researchers. |
DRAM_Cell_Structure_Comparison.md | DRAMセル構造(トレンチ型 / スタック型)の比較と図解(当時の主流セル構造を比較) Comparison and diagrams of trench vs. stacked DRAM cell structures. |
DRAM_Maker_Comparison_1998.md | 1998年当時の主要DRAMメーカー(NEC, Samsung, Micronなど)の技術比較 Comparison of major DRAM makers in 1998 (NEC, Samsung, Micron, etc.). |
DRAM_Cell_Technology_Chronology.md | DRAMセル技術の年表(セル構造と容量の進化史、主要ノードとの対応) Chronological table of DRAM cell technologies, including evolution of structure and density. |
dram_wafer_test_binclass_0.25um.md | 0.25μm世代DRAMのウエハテストにおけるBin分類(フェイルストップ順、日本語・英語併記) Bin classification used in wafer testing of 0.25µm DRAM, with fail-stop order and bilingual formatting. |
技術教育教材 / Educational Use:半導体プロセス・セル技術の基礎を歴史的文脈で学ぶ。
Learn the fundamentals of semiconductor process and cell technology in a historical context.
技術アーカイブ / Archival Record:失われつつある90年代末の技術情報を記録。
Preserve late-90s semiconductor knowledge that is being lost.
戦略研究基盤 / Strategic Study Base:日本のDRAM技術の強みとその変遷を分析。
Analyze the strengths and transitions of Japan’s DRAM technology.
本資料は、個人の実体験と文献・技術図面に基づき作成されています。内容の整合性と歴史的正確性に努めていますが、ご指摘や追加情報は歓迎いたします。
These documents are based on personal experience, technical drawings, and literature. Accuracy and historical consistency have been prioritized, but comments and additions are welcome.