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Inkjet Fabrication Directory

インクジェット製造技術ディレクトリ

This directory archives manufacturing and process-related documentation focused on inkjet technologies.
It includes technical summaries and reconstructions based on public information such as thin-film piezoelectric MEMS, CMOS integration, and implementation examples.

本ディレクトリでは、ラピスセミコンダクタの公開情報に基づき、薄膜ピエゾアクチュエータやMEMS構造、CMOS混載プロセスの技術資料をアーカイブします。

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📂 File Structure / ファイル構成

• lapis_pzt_fab.md
  → Overview of LAPIS Semiconductor’s publicly disclosed thin-film PZT MEMS technology (e.g., sputtering, SOI, CMOS integration)
  → ラピスセミコンダクタの公開資料に基づく PZT薄膜MEMS技術紹介（スパッタ法、SOI、CMOS混載など）

• lapis_pzt_flow_hypothetical.md
  → Educationally reconstructed process flow for 0.35μm high-voltage CMOS with integrated PZT, based on public technical data and inferred steps
  → 公開技術情報と技術的推定に基づく、0.35μm 高耐圧CMOS＋PZT混載プロセスフローの教育的再構成

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🎓 Educational Significance / 教育的意義

• Gate oxide thickness design for high-voltage operation
  高耐圧動作における酸化膜厚（Tox）設計の理解

• Techniques for thick PZT film formation using divided sputtering + annealing
  分割スパッタとアニールによる厚膜PZT形成技術

• Relevance of Si(111) substrate for anisotropic etching and MEMS cavity control
  Si(111)基板の選定とMEMS構造形成との整合性

• Insights into thermal design, drive voltage, and MEMS–CMOS integration
  放熱設計・駆動電圧・MEMSとCMOSロジックの統合設計に関する知見

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⚠ Notes / 注意事項

⚠ These documents are reconstructed for educational purposes based solely on publicly available sources.
⚠ 本資料群は、公開情報のみに基づく教育的再構成であり、実際の製造フローとは異なる可能性があります。

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📈 Future Additions / 今後の追加予定

Further documentation on other inkjet MEMS structures and drive systems will be added.
今後、他のインクジェットMEMS構造や駆動系プロセス事例も順次追加予定です。

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