Inkjet

薄膜ピエゾMEMS技術：ラピスセミコンダクタのファンドリ展開

Thin-Film Piezoelectric MEMS Technology by LAPIS Semiconductor

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概要 / Overview

ラピスセミコンダクタ（旧OKIセミコンダクタ、現ROHMグループ）は、スパッタ法によるPZT（Pb(Zr,Ti)O₃）薄膜のMEMSアクチュエータ形成技術を開発し、一部ファンドリサービスとして公開していた。本技術は、SOI基板を用いたMEMS構造と組み合わせることで、マイクロポンプやスピーカー、インクジェットなど幅広い応用が可能である。

LAPIS Semiconductor (formerly OKI Semiconductor, now part of the ROHM Group) developed and partially offered foundry services for PZT thin-film MEMS actuator technology using sputtering deposition. This technology combined PZT with SOI-based MEMS structures, enabling a range of applications such as micropumps, micro-speakers, and inkjet actuators.

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技術構造 / Technology Structure

       Passivation
           │
       Top Electrode (Pt)
           │
       PZT Thin Film
           │
     Bottom Electrode (Pt/Ti)
           │
         SiO₂ Insulator
           │
     MEMS Structure (SOI handle Si)
           │
       CMOS Layer (optional)
           │
        Silicon Substrate

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特徴 / Features

項目 / Item	内容 / Details
材料構成 / Material	PZT (Pb(Zr₀.₅₂Ti₀.₄₈)O₃)
堆積法 / Deposition	RFスパッタ法 / RF Sputtering
下地電極 / Bottom Electrode	Pt/Ti スパッタ堆積
アニール条件 / Annealing	Rapid Thermal Anneal (~600°C)
対応基板 / Substrate	SOI / Si / CMOS-on-MEMS
構造特性 / Characteristics	多層積層対応、微細構造形成可能

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応用例 / Application Examples

• インクジェットアクチュエータ / Inkjet actuators
• MEMSスピーカー / MEMS speakers
• マイクロポンプ / Micropumps
• センサ駆動部 / Sensor actuators
• ジャイロMEMS / Gyroscopic MEMS

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教育的意義 / Educational Relevance

• CMOS集積との整合性を持つ薄膜圧電構造の好例
• スパッタ法によるPZT堆積の現実的な応用展開
• MEMS×インクジェット技術の教材設計に活用可能

This is a valuable case study of integrating thin-film piezoelectric materials with CMOS-compatible MEMS structures, using sputtering as a practical PZT deposition method. Suitable for educational purposes in inkjet and actuator design.

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公開情報出典 / Public Information References

• SEMICON Japan 2010–2012（技術展示資料より）
• ROHM技術展示パネル（マイクロアクチュエータ紹介）
• LAPIS Semiconductor 公開パンフレット（アーカイブ）

🔍 本ページは、これら公開情報を元に教育的目的で構成された技術紹介であり、非公開の設計・工程詳細は含みません。