🧠 SRAM (Static Random Access Memory)
📘 概要|Overview
SRAM(Static RAM) は、高速で揮発性のメモリとして、SoC内部に組み込まれる主要な構成です。
SRAM (Static RAM) is a fast and volatile memory, widely embedded in SoCs.
DRAMのようにリフレッシュを必要とせず、6T構成セルで安定した保持が可能です。
Unlike DRAM, it does not require refresh and can stably retain data using a 6-transistor (6T) cell.
主な用途:キャッシュ、レジスタファイル、LUTなど。組込みメモリとして活用。
Typical uses: Cache memory, register files, LUTs. Widely used as embedded memory.
🔧 セル構造|Cell Structure: 6T SRAM Cell
📐 構成図|Schematic
VDD
|
+---+
| P1|───┐
+---+ |
| |
| Q (保存ノード / Storage Node)
| |
BL───AX1──────┘ └──────AX2───BL_bar
| |
WL -----------------------
| |
+---+ +---+
| N1| | N2| ← インバータ下部 / Bottom inverters
+---+ +---+
| |
GND GND
🔍 各構成要素の説明|Component Description
日本語 | English |
---|---|
P1/N1, P2/N2 | インバータを交差接続しラッチ構成 Cross-coupled inverters forming a latch |
AX1 / AX2 | アクセスFET。WLによりON/OFF制御 Access transistors controlled by WL |
Q / Q_bar | データ保持ノード Data storage nodes |
WL(Word Line) | セル選択信号線 Row select line |
BL / BL_bar(Bit Line) | 読み書きデータ線(差動) Differential data lines for read/write |
📊 特性と設計観点|Characteristics and Design Considerations
日本語 | English |
---|---|
データ保持性:電源ONで安定 Stable as long as powered |
Data retention: stable while powered |
面積:DRAMより大きい Larger than DRAM |
Area: larger than DRAM (6T) |
消費電力:書込大、待機小 High for write, low standby |
Power consumption: high during write, low in standby |
レイアウト:対称性重視 Symmetric layout critical |
Layout: symmetry important |
SNM設計:読み出し破壊対策 SNM tuning to avoid read disturb |
SNM: static noise margin design is crucial |
スピード:非常に高速 Very fast |
Speed: extremely fast (suitable for cache) |
🏗 組込み設計での活用|Use in Embedded Design
日本語 | English |
---|---|
SRAMマクロをPDKから呼出し(例:sky130) | Invoke SRAM macros from PDK (e.g., sky130) |
OpenLaneでBlackBoxとして配置 | Integrate as black-box via OpenLane |
キャッシュやバッファに階層配置 | Hierarchically embedded for cache or buffers |
🔁 他メモリとの比較|Comparison with Other Memories
項目 | SRAM | DRAM | Flash |
---|---|---|---|
高速性 Speed |
◎ | ○ | × |
容量 Capacity |
△ | ◎ | ◎ |
面積効率 Area Efficiency |
△ | ◎ | ○ |
不揮発性 Non-volatility |
× | × | ◎ |
組込み性 Embeddability |
◎ | △ | △ |
🧩 補足と応用|Supplemental Info
- 構成のバリエーション:8T, 10T, Dual-Port など用途に応じ多様化
Variants include 8T, 10T, dual-port designs depending on application. - 微細化の課題:FinFET/GAAではレイアウト困難
Scaling challenges arise with FinFET/GAA structures. - SNM設計重要:読み出し破壊や書込失敗回避に必要
SNM tuning is critical to avoid read disturbance and write failure.
🔗 関連章|Related Chapters
日本語 | English |
---|---|
基礎編 第2章:レジスタ構造 | Basic Chapter 2: Register logic structures |
基礎編 第4章:MOS特性 | Basic Chapter 4: MOS characteristics |
応用編 第4章:SRAM配置 | Applied Chapter 4: SRAM layout and DFM |
📦 技術アーカイブ(Edusemi-Plus)|Technical Archive (Edusemi-Plus)
ドキュメント | 概要(日本語) | Summary (English) |
---|---|---|
DRAM_Startup_64M_1998.md |
0.25μm世代64M DRAM立ち上げ記録 | 0.25μm 64M DRAM ramp-up history |
VSRAM_2001.md |
DRAM応用の擬似SRAM設計記録 | Pseudo SRAM based on DRAM process |
MoSys_1T_SRAM_Links.md |
1T-SRAM技術の参考リンク集 | Reference links for MoSys 1T-SRAM |
🏘 応用編 第1章:メモリ技術|Applied Chapter 1: Memory Technologies
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