📘 4.2 MOSトランジスタの動作原理と特性

4.2 MOS Transistor Operation and Electrical Characteristics


🎯 節の目的|Objectives

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MOSトランジスタの基本的な電気特性($V_{th}$, Id-Vg, $g_m$, SSなど)を整理し、設計と物理の橋渡しを行う Understand key MOSFET characteristics ($V_{th}$, Id-Vg, $g_m$, SS, etc.) and their implications for design.

🔌 しきい値電圧 $V_{th}$(Threshold Voltage)

▶ 定義と物理的意味|Definition & Physical Meaning

▶ 設計上の影響|Design Relevance

高 $V_{th}$ 低 $V_{th}$
リーク電流低減 高速動作可能
遅延増大 スタンバイ電流増大

🧠 Multi-Vthセルの選定バイアス制御などの設計戦略と深く関係


📈 Id-Vg 特性とチャネル動作領域|Id-Vg Curve and Operating Regions

領域|Region 条件|Condition 特性|Characteristics モデル|Model
カットオフ|Cutoff $V_{gs} < V_{th}$ OFF状態 / リーク支配 サブスレモデル
リニア|Linear $V_{ds} \ll V_{gs} - V_{th}$ 抵抗動作 $I_d \propto V_{ds}$
飽和|Saturation $V_{ds} \ge V_{gs} - V_{th}$ 定電流動作 $I_d \propto (V_{gs} - V_{th})^2$

📌 波形測定やSPICEシミュレーションを通じて、領域ごとの挙動を可視化できる


⚙ トランスコンダクタンス $g_m$(Transconductance)

▶ 定義|Definition

\[g_m = \frac{\partial I_d}{\partial V_{gs}}\]

$g_m$ は「ゲート電圧変化 → ドレイン電流変化」の変換効率を表す指標

▶ 設計との関係|Design Relevance


🔍 サブスレッショルド領域と SS|Subthreshold and Subthreshold Swing (SS)

\[\mathrm{SS} = \frac{dV_{gs}}{d(\log I_d)} \quad [\mathrm{mV/dec}]\]

▶ 教育的意義|Educational Perspective

特性 教育的含意
SSが小さい ON/OFF切り替えが急 → 低電圧設計に有利
sky130等のSS例 約 80〜100 mV/dec

🧰 設計と特性の関係|Design Implications

特性 回路設計との関係
$V_{th}$ セル選定、リーク抑制、バイアス制御
Id-Vg スイッチング速度、閾値感度、面積最適化
$g_m$ 増幅回路の設計、高速化、電力最適化
SS スタンバイ消費電力、動作マージン、低電圧適応性

🖼️ 図解予定|Planned Visual Aids


🔄 次節への接続|Transition to Next Section

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次節では、MOS特性に影響を与える長期信頼性(BTI, HCIなど)を扱います。 Next, we discuss long-term reliability effects such as BTI and HCI.

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👉 Go to 4.3: Device Reliability (BTI, HCI, etc.)


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