💰 5.2:CapExの推移とプロセスノード別投資傾向

5.2: CapEx Trends by Process Node

本節では、TSMCの設備投資(CapEx)の年次推移と、プロセスノードごとの投資傾向を分析します。
半導体ファウンドリ業界では、CapExは競争力と生産能力の両立に直結する指標であり、拠点拡張・先端ノード開発・設備更新のバランスが重要です。

This section analyzes TSMC’s annual CapEx trends and investment patterns by process node.
In the foundry industry, CapEx directly correlates with competitiveness and production capacity, requiring a balance between site expansion, leading-node development, and equipment renewal.


年度 / Year CapEx(億USD / B USD) 主な投資対象 / Major Targets
2020 170 N5量産設備、EUV増強 / N5 mass production, EUV expansion
2021 300 N3準備、熊本Fab計画 / N3 preparation, Kumamoto fab planning
2022 360 アリゾナ建設開始、N2先行開発 / Arizona fab start, N2 development
2023 320 JASM建設、R&D拡張 / JASM construction, R&D expansion
2024 280 ドイツFab計画、GAA試作ライン / Germany fab plan, GAA pilot line


🔍 投資配分の特徴 / Characteristics of Investment Allocation



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