📏 1.1|ノード年表とマーケティング命名の差異
1.1|Node Timeline & Marketing Name Differences
📝 概要 / Overview
JP:
半導体業界で使われる「5nm」「3nm」などのノード名称は、かつてはゲート長や配線ピッチなどの物理寸法を指していましたが、2010年代以降はマーケティング色が強まり、必ずしも物理寸法を反映しないラベルとなっています。TSMCも例外ではなく、内部での正式呼称(N5、N3、N2など)と市場向けの呼び方に差異があります。
EN:
In the semiconductor industry, node names such as “5nm” or “3nm” once referred to physical dimensions like gate length or metal pitch. Since the 2010s, these labels have become marketing-oriented and no longer directly represent physical dimensions. TSMC is no exception—its internal designations (N5, N3, N2, etc.) differ from the marketing names used in public.
📅 ノード年表 / Node Timeline
年 / Year | マーケティング名称 / Marketing Name | 内部呼称 / Internal Label | 主な特徴 / Key Features |
---|---|---|---|
2014 | 20nm | N20 | 最後のプレFinFETノード / Last pre-FinFET node |
2015 | 16nm | N16 / N16FF | 初のFinFET採用 / First FinFET adoption |
2017 | 10nm | N10 | 高密度ロジックだが短命ノード / High-density but short-lived node |
2018 | 7nm | N7 / N7+ | DUV多重パタ+一部EUV / DUV multi-patterning + partial EUV |
2020 | 5nm | N5 / N5P | 本格EUV導入 / Full EUV adoption |
2022–23 | 3nm | N3 / N3E | 改良FinFET、EUV層数増加 / Enhanced FinFET, more EUV layers |
2025 (予定) | 2nm | N2 | GAAナノシート構造 / GAA nanosheet structure |
2025–26 (予定) | A16 | A16 | GAA強化版、チップレット前提設計 / Enhanced GAA, chiplet-ready design |
🔍 命名の差異 / Naming Differences
JP:
- 内部呼称(例:N5)はプロセス技術世代を明確化するためのTSMC社内基準。
- マーケティング名称(例:5nm)は他社との比較や顧客向けアピール目的。
- 同じ「5nm」でも、TSMCとSamsungでは実効密度や配線寸法が異なる。
EN:
- Internal labels (e.g., N5) are TSMC’s in-house standard to define process generations.
- Marketing names (e.g., 5nm) are for competitive positioning and customer communication.
- The same “5nm” can differ in actual density and metal pitch between TSMC and Samsung.
🖼 ノード進化年表(概念図) / Node Evolution Timeline (Concept)
timeline
title TSMC Node Evolution
2014 : 20nm (N20)
2015 : 16nm FinFET (N16)
2017 : 10nm (N10)
2018 : 7nm (N7 / N7+)
2020 : 5nm (N5 / N5P)
2022 : 3nm (N3 / N3E)
2025 : 2nm GAA (N2)
2025-26 : A16 (Enhanced GAA)
📎 関連リンク / Related Links
📅 更新履歴 / Update History
日付 / Date | 内容 / Details |
---|---|
2025-08-11 | 初版作成(英日併記、年表・図追加) / First edition with JP/EN text, timeline table, and diagram |
🔙 ナビゲーション / Navigation
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