📘 CMOS適用限界とWBGへの分岐まとめ

Where CMOS ends and WBG (SiC / GaN / Diamond) begins


✅ 電圧・用途の棲み分け | Voltage & Application Mapping

技術 / Technology 耐圧レンジ(目安) / Voltage Range 集積度 / Integration 主な強み / Strengths 適用分野 / Applications
CMOS 1–5 V(ロジック回路)
Logic level
⭐⭐⭐⭐⭐ 高 / High 高集積・低消費電力
High density, low power
CPU, GPU, DRAM, SoC
BCD 5–200 V ⭐⭐⭐ 中 / Medium デジタル+アナログ+中耐圧を1チップ化
Mixed-signal + power integration
PMIC, 車載IC, モータードライバ
LDMOS 20–200+ V ⭐⭐ 低 / Low 中耐圧・高出力・RF対応
Medium voltage, high power, RF capable
基地局PA, 車載電源
SiC 600–1200 V+ ⭐ 低 / Low 高耐圧・高温・高効率
High voltage, high temperature, efficiency
EVインバータ, 産業電源
GaN 100–650 V(RF:〜100 GHz) ⭐⭐ 低 / Low 高速スイッチング・高周波・小型化
Fast switching, RF, compact
充電器, サーバ電源, 5G基地局, レーダー
Diamond kV〜10kV級(研究段階) ☆ 非常に低 / Very low 超高熱伝導・超高耐圧(理論最強)
Ultra-high thermal & breakdown
宇宙, 核融合, 将来応用

📊 適用領域イメージ | Application Landscape

graph TD
    A[CMOS 適用領域<br>*Low voltage, high integration*] --> B[BCD<br>*5–200 V mixed-signal power*]
    B --> C[LDMOS<br>*20–200+ V RF/PA*]
    B --> D[GaN<br>*100–650 V fast switching/RF*]
    D --> E[SiC<br>*600–1200 V high power*]
    E --> F[Diamond<br>*kV extreme future use*]

🔀 選定フロー | Selection Flow

  1. SoC集積が必須?
    Is SoC integration required?
    → はい → CMOS / BCD

  2. 耐圧 > 200 V 必要?
    Need >200 V blocking voltage?
    → はい → LDMOS / GaN / SiC

  3. > 600 V必要?
    Need >600 V?
    → はい → SiC(さらにkV級なら Diamond / Ga₂O₃)

  4. 高周波・RF用途?
    RF or high-frequency application?
    → はい → GaN(特に GaN on SiC


🎯 まとめ | Summary


🧩 System in Package 視点 | SiP Perspective

単一プロセスでは全領域をカバーできないため、実際の応用は「System in Package (SiP)」で複数チップを組み合わせるのが主流です。
Since no single process covers all domains, practical applications rely on System in Package (SiP) combining multiple dies.

🔹 役割分担 | Role Sharing

🔹 実例 | Practical Examples


🖼️ 見取り図 | Technology Integration Landscape

📊 図1: 概念モデル | Conceptual Model

CMOS = 🧠 Brain(制御・ロジック)
WBG (GaN/SiC) = 💪 Muscle(パワー・RF)

graph TB
    A[🧠 CMOS<br>*Brain: Logic & Control*]
    B[⚡ BCD/LDMOS<br>*Power Management*]
    C[💪 GaN/SiC<br>*Muscle: Power & RF*]
    D[🔮 Diamond<br>*Extreme Future*]

    A -->|Control| B
    A -->|Drive| C
    B -->|Assist| C
    C -->|High Power Domain| D

📊 図2: 技術マップ | Voltage & Application Landscape

graph TD
    A[CMOS 1–5 V] --> B[BCD 5–200 V]
    B --> C[LDMOS 20–200+ V]
    B --> D[GaN 100–650 V]
    D --> E[SiC 600–1200 V]
    E --> F[Diamond kV級]

    G["System in Package (SiP)"]
    H["Chiplet + UCIe"]

    A --> G
    B --> G
    C --> G
    D --> G
    E --> G
    F --> G
    G --> H

🖼️ 付録: 材料特性グラフ | Appendix: Material Property Charts

バンドギャップ比較 | Bandgap Comparison

Bandgap Comparison

Eg values for Si, SiC, GaN, Diamond

移動度 vs Eg グラフ | Mobility vs Bandgap

Mobility vs Bandgap

Trade-off between carrier mobility and bandgap

応用マップ | Application Mapping

Application Mapping

Voltage range vs Integration landscape