📊 2. 材料特性の定量比較|Quantitative Comparison of Si / SiC / GaN / Diamond

本節では、主要半導体材料 (Si, SiC, GaN, Diamond)物理特性を定量的に比較し、
それぞれの 「強み」「制約」 を明確化します。
In this section, we quantitatively compare the physical properties of Si, SiC, GaN, and Diamond,
clarifying each material’s strengths and limitations.


📌 比較視点|Key Comparison Metrics

項目 / Parameter 意味 / Meaning 重要性 / Importance
バンドギャップ (Eg) 電流を流すために必要な最小エネルギー差 / Minimum energy gap for conduction 高温特性・耐圧に影響 / Affects high-temp tolerance & breakdown voltage
飽和ドリフト速度 / Saturation Drift Velocity 電界印加時のキャリア速度限界 / Max carrier velocity under field スイッチング速度に影響 / Impacts switching speed
電子移動度 / Electron Mobility 電界に対する電子の動きやすさ / Ease of electron movement 抵抗・高速性に関与 / Relates to resistance & speed
熱伝導率 / Thermal Conductivity 発熱を外部へ逃がす能力 / Ability to dissipate heat パッケージ・冷却設計に関与 / Critical for cooling & packaging
絶縁破壊電界 / Breakdown Field 絶縁破壊が起きる限界電界 / Max field before breakdown 耐圧・小型化に直結 / Directly impacts breakdown voltage & scaling
臨界オン抵抗 / Critical On-Resistance 高耐圧FETでの理論的最小オン抵抗 / Theoretical min. on-resistance 効率・発熱に直結 / Determines efficiency & heat loss

📊 主要材料の物性一覧|Representative Material Properties

材料 / Material Eg (eV) 電子移動度 / Mobility (cm²/V·s) 熱伝導率 / Thermal Conductivity (W/m·K) 絶縁破壊電界 / Breakdown Field (MV/cm) 臨界オン抵抗 (相対) / Critical Ron (Rel.)
Si 1.1 1,500 150 0.3 1.0(基準 / Reference)
SiC 3.3 900 490 3.0 約1/300
GaN 3.4 2,000 130 3.3 約1/400
Diamond 5.5 2,200 2,000 10.0+ 約1/5000

💡 臨界オン抵抗は、同じ耐圧で必要とされる理論的オン抵抗の指標(Siを1とした相対値)
💡 Critical Ron is the theoretical min. on-resistance for the same breakdown voltage, normalized to Si = 1


🧠 材料の使いどころ|Where Each Material Excels


📉 グラフ化例(予定)|Planned Graphs

👉 これらは /images/ に後日追加予定です。
👉 These plots will be added later in /images/.


📎 次節への接続|Next Section

3. 材料応用マッピング|Applications Mapping では、
ここで比較した材料特性が どのアプリケーションに最適化されるか を解説します。
In the next section, we discuss how these material properties map to specific applications.


🔄 ナビゲーション / Navigation