🧪 1. Si・SiC・GaN・ダイヤモンド|なぜ材料を変える必要があるのか?
1. Why Change from Si to SiC, GaN, and Diamond?
🔍 出発点:シリコンの優位性と限界
Starting Point: Advantages and Limitations of Silicon
特性 / Property | シリコン(Si)の利点 / Advantages of Si | 限界(用途による) / Limitations |
---|---|---|
製造性 / Manufacturability | 高結晶性・加工容易 / High crystallinity, easy to process | 300mmウェハが主流 / 300mm wafer dominant |
コスト / Cost | 安価・既存インフラ多数 / Low cost, abundant infrastructure | 高耐圧領域で劣化 / Degrades at high voltages |
電子特性 / Electrical Properties | MOS動作に適した移動度 / Mobility suited for MOS | 熱伝導性やや低い / Relatively low thermal conductivity |
応用範囲 / Application Range | CMOSロジックに最適 / Ideal for CMOS logic | 高電圧・高周波に非効率 / Inefficient for high-voltage & high-frequency |
➡ これらの用途には「ワイドバンドギャップ材料(WBG)」が必要
➡ Such applications require Wide Bandgap (WBG) materials
⚡ WBG材料とは?
What are Wide Bandgap Materials?
材料 / Material | バンドギャップ (eV) / Bandgap (eV) | 特徴 / Features | 主な用途 / Main Applications |
---|---|---|---|
Si | 1.1 | CMOSの基本材料 / Base material for CMOS | LSI, MEMS |
SiC | 3.3 | 高耐圧・高温耐性 / High voltage & high temperature resistance | EV, Power IC, Railways |
GaN | 3.4 | 高周波性能・高速スイッチング / High frequency, fast switching | 5G, Power supply, Satellite comms |
Diamond | 5.5 | 最高熱伝導率・絶縁耐圧 / Highest thermal conductivity, high breakdown | Space, Nuclear fusion, Radiation-hardened devices |
💡 バンドギャップが広いほど高電圧・高温に強く、オン抵抗を下げられる可能性が高い
💡 Wider bandgap → better high-voltage/high-temperature tolerance, lower on-resistance
🧩 Siでは到達できない応用例
Applications Beyond Silicon’s Capability
応用例 / Application | 材料の選定理由 / Reason for Material Choice |
---|---|
EVインバータ / EV Inverter | 高耐圧&低損失 → SiC / High voltage & low loss → SiC |
5G通信 / 5G Communication | 高速スイッチング&小型化 → GaN HEMT / High-speed switching & compact size → GaN HEMT |
宇宙用途 / Space Applications | 放射線耐性&熱放出性 → ダイヤモンドFET / Radiation resistance & heat dissipation → Diamond FET |
🔁 CMOSとの違いと接続
Differences from and Connections to CMOS
- GaN・SiCも MOS構造やHEMT構造 に応用可能
GaN and SiC can also be used in MOS and HEMT structures - CMOSロジックとは 電気特性・製造プロセス・基板温度制約 が異なる
They differ from CMOS logic in electrical properties, manufacturing processes, and substrate temperature limits
📝 本節のまとめ / Summary
- Si以外の材料が必要な理由は「限界特性の突破」
Need for non-Si materials arises from overcoming physical limits - SiC・GaN・ダイヤモンドは高耐圧・高温・高周波・高放射線環境に適応
SiC, GaN, and Diamond are suited for high-voltage, high-temp, high-frequency, radiation environments - 用途と材料はトレードオフで選定し、「物性」→「応用」への流れが重要
Application and material choice are trade-offs, making the flow from physical properties → application crucial
📎 次節 / Next: 2. 材料の物性比較|Material Properties Comparison では、
各材料の 移動度・バンドギャップ・耐圧・オン抵抗 を定量的に比較します。
In the next section, we will quantitatively compare mobility, bandgap, breakdown voltage, and on-resistance of each material.
🔄 ナビゲーション / Navigation
- ◀ 前節 / Previous: (なし / None)
- ▶ 次節 / Next: 2. 材料の物性比較|Material Properties Comparison
- 🔙 README: Materials|半導体材料の特性と応用選定