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🖼️ フォトマスク関連｜設計と製造をつなぐ光のブリッジ

🖼️ Photomasks | The Optical Bridge Between Design and Manufacturing

本ディレクトリでは、フォトマスクに関わる主要技術・企業・工程を整理します。
This directory outlines the key technologies, companies, and processes related to photomasks.

フォトマスクは、EDAで生成されたレイアウトデータを光学的にシリコン上に転写するための基盤です。
Photomasks serve as the physical medium that projects layout data onto wafers through lithography.

📚 フォトマスク関連の主な領域と企業

📚 Major Domains and Companies in Photomask Industry

領域	代表企業	概要
マスクブランクス	HOYA 🇯🇵, AGC 🇯🇵	石英基板、EUV用多層反射膜形成
マスク描画・製作	DNP 🇯🇵, Toppan 🇯🇵, Photronics 🇺🇸	e-beam描画、先端マスク製造
OPC/ILT最適化	Synopsys 🇺🇸, Siemens EDA 🇺🇸	設計データの露光最適化、ILT手法の導入
欠陥検査・補正	NuFlare 🇯🇵, KLA 🇺🇸	マスク欠陥の検出と修正、actinic検査対応

🧩 フォトマスクの種類と構造

🧩 Mask Types and Structures

ArF透過型マスク：通常の光透過構造、液浸対応あり
EUV反射型マスク：極紫外光を反射する多層ミラー構造
レチクル（Reticle）：1x～4x縮小比で使用、露光縮小光学系と連携

EUVマスクは、極端に高価かつ欠陥検査が困難なため、歩留まりと開発リスクに大きく影響します。
EUV masks are extremely expensive and hard to inspect, significantly affecting yield and development cost.

🔍 教材活用のヒント

🔍 Learning & Exploration Ideas

なぜASMLだけがEUV露光を供給できるのか？ → フォトマスク技術と装置の連携構造に注目
OPCとILTの違いと役割 → デザインと製造の相互最適化の本質
HOYAのEUVマスクブランクスの世界シェアと地政学的意味を探る

📎 関連カテゴリ

🧠 eda-tools/：設計データ生成・OPC連携
⚙️ front-equipments/：露光装置との適合性
🔬 metrology-tools/：マスク検査・補正との接続

📄 ライセンス

📄 License

MIT License に基づき、非営利・教育目的での自由な利用・改変・共有を歓迎します。
This content is released under the MIT License, and is freely available for non-commercial and educational reuse.

フォトマスクは、設計情報を物理世界に写し取る「光のテンプレート」です。構造・材料・検査まで含めて深く学びましょう。
Photomasks are the light-based templates that translate design into reality. Explore their structure, materials, and inspection technologies.